对
错
下列不属于根据制造工艺的不同对集成电路分类的是()。A、膜集成电路B、半导体集成电路C、混合集成电路D、模拟集成电路
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光固化成形工艺也称()。A.立体光刻B.分层实体制造C.选区激光烧结
LIGA (光刻)工艺制造微电子芯片属于精密特种加工。()此题为判断题(对,错)。
B型超声诊断仪制造工艺采用()A、光刻B、声刻C、雕刻D、透镜
简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性?
在大规模集成电路的制造中,更多采用的是MOS工艺集成电路,而不是双极型集成电路。
实现超微图形成像的()技术一直是推动集成电路工艺技术水平发展的核心驱动力。A、光刻B、刻蚀C、氧化D、溅射